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制藥無殘留GMP均質機 均質器

制藥無殘留GMP均質機在納米均質機運作的過程中,轉軸以及轉軸上各個零部件都是處于高速運轉的狀態,研磨定轉子部分會帶動研磨介質與物料產生強烈的碰擦與撞擊,以起到磨細物料和分散聚體的作用。

  • 產品型號:GRS2000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-09-17
  • 訪  問  量:2604
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產品詳情

一、產品名稱概述:

制藥無殘留GMP均質機,高剪切制藥均質機,無塵無菌小型均質機,GMP車間醫藥均質機

 

二、設備的選型要點:

1、明確使用設備所需達到的效果和目的

2、詳細了解并掌握研究物料的性質(包括物理、化學性質)

3、根據物料對設備的攪拌機進行選型

4、再次確定設備的操作參數及結構設計

5、綜合考慮設備的成本

制藥設備是否符合GMP要求,直接關系到生產企業實施GMP的質量。SGN上海思峻設備在不斷的時間創新中逐漸實現在設計、制造、安裝及檢驗等各方面滿足醫藥領域。

三、高剪切均質機工作機理及制藥過程

1.目前國內常用的剪切式均質機線速度多為10~25 m/ s。實踐證明其均質效果并不理想。

2.SGN高剪切均質機指線速度達到40~66 m/ s的剪切式均質機,其主要工作部件為多級相互嚙合的定轉子,每級定轉子又有數層齒圈.

3.混懸劑藥物制備過程為:

藥物—粉碎—(分散)分散介質—混懸劑

4.其操作要點為:

親水性藥物:加液研磨

疏水性藥物:先將藥物與潤濕劑共研,再加液研磨

質重、硬度大的藥物:水飛法

制備機械:膠體磨、均質機

均質機和膠體磨相比,細化程度更好,混懸液均化穩定性更高

5.GMP制藥無殘留均質機是一款膠體磨和均質機一體化的設備,先研磨均質,先將化工原料混合成流體狀漿料的大顆粒和團聚體先打開,然后再進均質。SGN研磨均質機在國nei多家大型藥企以及多家醫藥研究所,醫學院都有著突出的應用。
6.在納米均質機運作的過程中,轉軸以及轉軸上各個零部件都是處于高速運轉的狀態,研磨定轉子部分會帶動研磨介質與物料產生強烈的碰擦與撞擊,以起到磨細物料和分散聚體的作用。同時,物料經過研磨后,通過泵葉的巨大吸力,使其被吸出研磨籃,然后再由分散盤對其進行分散處理,這樣就可以在很短的時間內獲得理想的研磨效果。

7.第yi級由具有經細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,定子可以無線制的被調整到所需要的與轉子之間的距離,在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。這樣的設計可以保障物料初始顆粒較大時,可以順暢進入高速均質機腔體,通過高速旋轉的經細度遞升磨頭,zui終得到微納米級的物料顆粒。

8.第2級由轉定子組成。均質頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子、轉子和批次式機器的工作頭設計的不同主要在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗經度、中等經度、細經度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很zhong要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很zhong要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

 

四、SGN高速均質機的技術參數:

高速均質機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GRS 2000/4

700

14000

40

4

DN25/DN15

GRS 2000/5

5,000

10,500

40

11

DN40/DN32

GRS 2000/10

10,000

7,300

40

22

DN50/DN50

GRS 2000/20

30,000

4,900

40

45

DN80/DN65

GRS 2000/30

60,000

2,850

40

75

DN150/DN125

GRS 2000/50

100000

2,000

40

160

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。

 

制藥無殘留GMP均質機,高剪切制藥均質機,無塵無菌小型均質機,GMP車間醫藥均質機

 

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