無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機，芳綸涂覆的鋰電池復合隔膜研磨分散機，二氧化硅分散液分散機

SGN研磨分散機能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制，且操作簡單方便，機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到*的清洗。

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。SGN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設備轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是目前普通設備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出結(jié)果產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

鋰電池作為新型的二次電池，具有高能量密度、循環(huán)壽命長等優(yōu)點，其應用范圍不斷擴展，被大量應用于便攜式電子裝置、電動工具、儲能和動力汽車中，尤其隨著新能源行業(yè)的快速發(fā)展，鋰電池被越來越多的應用到動力汽車中。然而，頻繁發(fā)生的鋰電池安全事故日益引起了人們的廣泛關注。其中，隔膜作為鋰電池的重要組成部分，可以有效防止正、負極接觸發(fā)生短路，對鋰電池的安全性具有非常重要的影響，因此，鋰電池性能的提升及安全性要求對隔膜的性能有著更高的要求。

聚烯烴隔膜是目前使用廣泛的鋰電池隔膜，但是，市場上現(xiàn)有的聚烯烴隔膜存在熱收縮率大和親電解液不足的問題。為了改善聚烯烴隔膜的耐熱性和電解液浸潤性，目前主要的解決方案是在聚烯烴隔膜的單面或雙面涂覆涂層，這種涂層在一定程度上可以改善隔膜的熱穩(wěn)定性，同時與電解液有良好的浸潤性。隨著鋰電池的發(fā)展，對其能量密度要求越來越高，導致電池內(nèi)部環(huán)境越來越苛刻，普通的無機涂層不能達到高溫(大于150攝氏度)條件下的熱穩(wěn)定性能，因此尋求下一代熱穩(wěn)定性能優(yōu)異的隔膜就成了當務之急。

芳綸以其高強度、高模量、耐化學腐蝕的特性，被廣泛應用于航空航天、電器和特種品開發(fā)等領域，其分解的溫度可達590℃，能大大提高電池的耐熱性和安全性能。然而，芳綸樹脂難溶難熔，只能溶解在濃硫酸中，工藝復雜，設備要求耐強酸腐蝕，加工比較困難，從而限制了芳綸材料的應用領域。

制備芳綸涂覆的鋰電池隔膜時，多直接使用DMAC、DMF、NMP、DMSO等有機溶劑配合助溶劑溶解芳綸纖維制備芳綸溶解液，然后添加成孔劑得芳綸漿料，使涂覆膜浸凝固液固化，Z后經(jīng)水洗、烘干制得芳綸涂覆鋰電池隔膜。該方法仍存在以下問題：

1、芳綸纖維需加熱溶解，該過程會導致芳綸漿料引入雜質(zhì)較多，部分芳綸纖維分解，造成耐熱性及機械性能變差；

2、現(xiàn)有的芳綸涂層對鋰電池隔膜的耐高溫性能改善有限；

3、現(xiàn)有的芳綸涂層易形成致密孔而影響透氣性。

從設備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個關鍵因素，研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的

GMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到允許量的

無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機，芳綸涂覆的鋰電池復合隔膜研磨分散機，二氧化硅分散液分散機